次微米計畫

次微米計畫   
注音 ㄘˋ ㄨㄟˊ ㄇㄧˇ ㄐㄧˋ ㄏㄨㄚˋ  拼音 cì wéi mǐ jì huà
次微米指小於一微米的半導體製作技術。民國七十九年,政府為建立完整之半導體產業,期盼能引導產業進入次微米時代。乃由經濟部委託工研院電子所主導,並撥列經費以規劃籌建次微米實驗室,做為驅動我國IC技術跨入次微米新紀元的前哨。七十九年七月,次微米計畫研發工作正式展開,為期五年(西元一九九○至一九九五年)。整體計畫目標如下:
(1) 建立一座八吋晶圓,Class 0.1 (0.3微米)的世界一流水準的實驗室,以提供開發次微米製程技術。
(2) 在一九九五年以前使中華民國具備:a. 0.7/0.5微米整合製程技術。b. 0.35 微米製程模組技術。
(3) 建立超潔淨技術及八吋晶圓量產型技術。
(4) 建立中華民國極大型積體電路(ULSI)研究發展能力,並對世界IC研究發展的領域有所貢獻。